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    190506-调制比对磁控溅射Ti/TiN 多层膜组织结构和结合力的影响

    日期:2019-03-26     浏览:77    下载:0     体积:3.88M     评论:0    


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    DOI: 10.19289/j.1004-227x.2019.05.006

    刘闯,周晖*,张凯锋,郑军,冯兴国,郑玉刚
         (兰州空间技术物理研究所,真空技术与物理国防科技重点实验室,甘肃 兰州 730000)


    摘要?#21644;?#36807;固定薄膜厚度与调制周期,改变Ti 与TiN 调制比(分别为1∶3、1∶5、1∶9 和1∶11),采用反应磁控溅射法在硅片上制备Ti/TiN 多层膜,研究调制比对薄膜微观组织结构及薄膜与基体结合力的影响。用X 射线衍射仪(XRD)分析薄膜的晶体结构,用扫描电镜(SEM)观察薄膜的形貌,用纳米?#36141;?#20202;测试薄膜的硬度,用纳米划痕仪测试薄膜与基体之间的结合力。结果表明:多层膜中TiN 出现(220)晶面择优取向,Ti/TiN 薄膜为柱状晶方式生长。柱状晶的细化程度随调制比的变化而发生周期性变化,柱状晶组织细化程度高的样品具有更高的硬度,但结合力更低。
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