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    190506-調制比對磁控濺射Ti/TiN 多層膜組織結構和結合力的影響

    日期:2019-03-26     瀏覽:95    下載:0     體積:3.88M     評論:0    


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    DOI: 10.19289/j.1004-227x.2019.05.006

    劉闖,周暉*,張凱鋒,鄭軍,馮興國,鄭玉剛
         (蘭州空間技術物理研究所,真空技術與物理國防科技重點實驗室,甘肅 蘭州 730000)


    摘要:通過固定薄膜厚度與調制周期,改變Ti 與TiN 調制比(分別為1∶3、1∶5、1∶9 和1∶11),采用反應磁控濺射法在硅片上制備Ti/TiN 多層膜,研究調制比對薄膜微觀組織結構及薄膜與基體結合力的影響。用X 射線衍射儀(XRD)分析薄膜的晶體結構,用掃描電鏡(SEM)觀察薄膜的形貌,用納米壓痕儀測試薄膜的硬度,用納米劃痕儀測試薄膜與基體之間的結合力。結果表明:多層膜中TiN 出現(220)晶面擇優取向,Ti/TiN 薄膜為柱狀晶方式生長。柱狀晶的細化程度隨調制比的變化而發生周期性變化,柱狀晶組織細化程度高的樣品具有更高的硬度,但結合力更低。
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